“GMD2000水性環(huán)氧樹脂研磨分散機(jī)”參數(shù)說明
類型: | 其它 | 形態(tài): | 其它 |
組分類別: | 其它 | 型號: | Gmd2000 |
規(guī)格: | Gmd2000/4 | 產(chǎn)品類型: | 全新 |
分散機(jī)類型: | 剪切分散機(jī) | 整機(jī)重量: | 50 |
分散輪直徑: | 55 | 用途: | 分散 |
罐容量: | 0-1000 | 變速方式: | 變頻變速 |
外形尺寸(長*寬*高): | 450*350*750 | 速度類別: | 無級變速 |
調(diào)速范圍: | 0-14000 | 物料類型: | 固-液 |
適用物料: | 化學(xué)品 | 速度范圍: | 1200rpm以上 |
電機(jī)功率: | 4 | 品牌: | Sgn,其他 |
升降行程: | 0-100 | 應(yīng)用領(lǐng)域: | 化工 |
“GMD2000水性環(huán)氧樹脂研磨分散機(jī)”詳細(xì)介紹
水性環(huán)氧樹脂研磨分散機(jī),環(huán)氧樹脂分散機(jī),水性環(huán)氧樹脂分散設(shè)備,涂料分散機(jī),樹脂分散機(jī)
水性環(huán)氧樹脂通常是指環(huán)氧樹脂以微粒、液滴或膠體形式分散于水相中所形成的乳液、水分散體或水溶液,三者之間的區(qū)別在于環(huán)氧樹脂分散相的粒徑不同。
水性環(huán)氧樹脂分散后可以制備水性環(huán)氧樹脂涂料,一般有四種方式,較為簡單直接的是機(jī)械法,機(jī)械法即直接乳化法,可用膠體磨、球磨機(jī)、砂磨機(jī)等設(shè)備先將固體環(huán)氧樹脂預(yù)先磨成微米級的環(huán)氧樹脂粉末,然后加入乳化劑水溶液,再通過機(jī)械攪拌將粒子分散于水中; 或?qū)h(huán)氧樹脂和乳化劑混合,加熱到適當(dāng)?shù)臏囟?,在激烈的攪拌下逐漸加入水而形成乳液。用機(jī)械法制備水性環(huán)氧樹脂乳液的優(yōu)點(diǎn)是工藝簡單,所需乳化劑用量較少,但乳液 氧樹脂分散相微粒尺寸較大,粒子形狀不規(guī)則且尺寸分布較寬,所配得的乳液穩(wěn)定性差,粒子之間容易相互碰撞而發(fā)生凝結(jié)現(xiàn)象,并且該乳液的成膜性能也欠佳。
當(dāng)然,機(jī)械法存在的問題是可以很好的去解決的,乳液穩(wěn)定性差,可以說明兩個原因,一是水性環(huán)氧樹脂的粒徑?jīng)]有充分的細(xì)化,二是水性環(huán)氧樹脂沒有 的分散到水中,形成穩(wěn)定的乳液。如果采用SGN高速剪切研磨分散機(jī)的話就可以解決機(jī)械法存在的問題,使得環(huán)氧樹脂微粒能較為穩(wěn)定地分散在水相中。SGN高速剪切研磨分散機(jī)簡單的將就是將SGN高剪切膠體磨和SGN高剪切分散機(jī)合二為一,形成兩級的設(shè)備, 級為膠體磨磨頭,實(shí)現(xiàn)研磨細(xì)化的功能; 級為分散機(jī)分散盤,實(shí)現(xiàn)分散均勻的功能。
水性環(huán)氧樹脂研磨分散機(jī),接觸過SGN上海思峻的人都知道,SGN膠體磨和SGN分散機(jī)在行業(yè)就是較 的設(shè)備,SGN膠體磨和國內(nèi)膠體磨相比、SGN分散機(jī)和國內(nèi)分散機(jī)相比都是存在巨大優(yōu)勢的,而SGN研磨分散機(jī)又是將二者結(jié)合的設(shè)備,處理效果,不言而喻。
SGN高速剪切研磨分散機(jī)有很高的線速度,以及 級磨頭,特殊上深下淺的三級磨頭結(jié)構(gòu),一次處理即可滿足細(xì)化要求。 級刀頭形狀,可以把相對大塊的物料進(jìn)行初步粉碎,以便能順利通過 細(xì)的兩級進(jìn)行細(xì)微化研磨。 磨頭齒列深度為從開始的 2.7mm 到末端的0.7mm,除了 精密之外,上深下淺的齒列結(jié)構(gòu),相較溝槽是直線,同級的溝槽深度一樣的磨頭,可以保證物 料從上往下一直在進(jìn)行研磨。雖和其它產(chǎn)品一樣磨頭采用三級磨齒,但他們只能在一級磨頭到另外一級磨頭形成研磨效果。 級分散盤,無論是在分散盤的結(jié)構(gòu)、還是定轉(zhuǎn)子的間隙都有比其他分散盤要精密的多。